特許

J-GLOBAL ID：201103078655484976

二元細孔シリカ及びその製造方法

発明者： 佐藤 智司 ,  高橋 亮治 ,  石附 正成 ,  松谷 勝博 ,  三上 直樹
出願人/特許権者： 国立大学法人 千葉大学 ,  株式会社トクヤマ
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-027064
公開番号（公開出願番号）：特開2006-213558
特許番号：特許第4641813号
出願日： 2005年02月02日
公開日（公表日）： 2006年08月17日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 平均直径が5〜50nmの範囲内にあるナノ細孔と、平均直径が0.1〜20μmの範囲内であるマクロ細孔が形成され、且つ、前記ナノ細孔の容積が0.4〜1.5cm3/gの範囲内にあり、前記マクロ細孔の容積が0.6〜2.0cm3/gの範囲内にあり、更に、圧縮強度が10kg/cm2以上20kg/cm2以下の範囲内にあることを特徴とする二元細孔シリカ。

IPC (6件)：

C01B 33/157 ( 200 6.01) ,  B01J 20/10 ( 200 6.01) ,  B01J 20/28 ( 200 6.01) ,  B01J 21/08 ( 200 6.01) ,  B01J 32/00 ( 200 6.01) ,  B01J 35/10 ( 200 6.01)

FI (6件)：

C01B 33/157 ,  B01J 20/10 D ,  B01J 20/28 Z ,  B01J 21/08 M ,  B01J 32/00 ,  B01J 35/10 301 H

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 断熱調湿材とそれを用いる建築材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-076839   出願人：株式会社荏原製作所, 佐藤智司, 高橋亮治
• 二元細孔シリカゲル担持パラジウムを用いた接触水素添加反応方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-043400   出願人：和光純薬工業株式会社
• 多孔体およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-273368   出願人：株式会社豊田中央研究所
• シリカゲルの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-198224   出願人：三菱化学株式会社

引用文献：

出願人引用 (1件)

• 水ガラスからの二元細孔シリカの作製とその結晶化

審査官引用 (1件)

• 水ガラスからの二元細孔シリカの作製とその結晶化