動いている基板の形状変化を検出する方法および装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：柳田征史 , 佐久間剛
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-535983
公開番号（公開出願番号）：特表2011-505559
出願日： 2008年11月24日
公開日（公表日）： 2011年02月24日
要約：

連続的な基板の形状の変化を検出するための方法が開示され、この方法は、測定ゾーンを通って連続的に動いている連続的な基板を提供する工程、測定ゾーンの少なくとも一部と光学的に通信している光学的ポジションセンサを提供する工程、連続的な基板の少なくとも一部を測定ゾーンの少なくとも一部の範囲内においてレーザ放射で照射しかつレーザ放射の反射を検出する工程、さらにその後、連続的な基板の照射された部分と光学的ポジションセンサとの間の距離を測定する工程を含む。

請求項（抜粋）：

連続的に動いている基板の形状の変化を検出する方法であって、 (a)連続的な基板の少なくとも一部を、該基板が連続的に動いて通過する測定ゾーンの範囲内で、レーザ放射で照射する工程、 (b)光学的ポジションセンサを前記測定ゾーンに対して既定の固定位置に設置する工程、 (c)前記レーザ放射の反射の少なくとも一部の光学的位置を、前記光学的ポジションセンサで検出する工程、 (d)前記連続的な基板の前記照射された部分と、前記光学的ポジションセンサとの間の距離を、前記レーザ放射の反射の前記少なくとも一部の前記検出された位置から測定する工程、 (e)前記距離を既定値と比較し、その差によって前記連続的な基板の形状の変化を示す工程 (f)前記連続的な基板を、前記測定ゾーンを通過した後に複数片に切断する工程、を含み、工程(c)、(d)、(e)および(f)を繰返し実施し、かつ、 (g)前記複数回の繰返し夫々の場合の、前記連続的基板の前記照射された部分と前記光学的ポジションセンサとの間の距離を比較し、さらに、 (h)前記複数回の繰返し夫々の場合の、前記連続的基板の前記照射された部分と前記光学的ポジションセンサとの間の前記距離が、既定量異なる場合には、(i)アラームを発する工程、および、(ii)前記連続的基板の前記照射された部分と前記光学的ポジションセンサとの間の前記距離が既定量異なる前記連続的な基板の部分を含んだ、複数片のいずれかを識別する工程、のうち少なくとも1つの工程を含むことを特徴とする方法。

IPC (2件)：

G01B 11/24 , C03B 17/06

FI (2件)：

G01B11/24 A , C03B17/06

Fターム (9件)：

2F065AA01 , 2F065AA06 , 2F065AA51 , 2F065BB15 , 2F065GG04 , 2F065MM03 , 2F065QQ08 , 2F065QQ25 , 2F065SS09

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平4-143608
ガラス基板の板厚測定装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-097144 出願人：西山ステンレスケミカル株式会社
ボードの検査方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-165463 出願人：株式会社ブリヂストン

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