レジスト処理方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：守谷一雄
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平1-189892
公開番号（公開出願番号）：特開平3-054844
特許番号：特許第2717108号
出願日： 1989年07月21日
公開日（公表日）： 1991年03月08日
請求項（抜粋）：

【請求項1】被処理体を収納する収納体と、前記被処理体を所定の温度に加熱する加熱処理部と、前記被処理体を所定の温度に冷却する冷却処理部と、前記被処理体の表面処理をする表面処理部と、前記被処理体に塗布液を塗布する塗布処理部と、前記収納体、前記加熱処理部、前記冷却処理部、前記表面処理部及び前記塗布処理部へ前記被処理体を保持して搬送する保持部とを備えたレジスト処理装置により前記被処理体のレジスト処理をする際、温度調整機構を備えた複数の前記保持部により、前記被処理体を前記加熱処理部へ搬送するときは加熱し、前記被処理体を前記冷却処理部へ搬送するときは冷却して順次処理を行うことを特徴とするレジスト処理方法。

IPC (3件)：