特許

J-GLOBAL ID：201103079043080333

ポジ型感放射線性組成物、層間絶縁膜及びその形成方法

発明者： 一戸 大吾
出願人/特許権者： JSR株式会社
代理人 (8件)： 天野 一規 ,  藤本 勝誠 ,  藤井 康輔 ,  池田 義典 ,  宮崎 悟 ,  小川 博生 ,  加藤 早苗 ,  奥谷 優
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-093594
公開番号（公開出願番号）：特開2011-221471
出願日： 2010年04月14日
公開日（公表日）： 2011年11月04日
要約：

【課題】優れた放射線感度を有し、得られる層間絶縁膜が高い光線透過率及び電圧保持率を備えつつ、硬化膜形成条件の変化にも対応できる優れた現像性及びパターン形成性を備えるポジ型感放射線性組成物、その組成物から形成された層間絶縁膜、並びにその層間絶縁膜の形成方法を提供することを目的とする。【解決手段】本発明は、[A]同一又は異なる重合体分子中に下記式(1)で表される基を含む構造単位とエポキシ基含有構造単位とを有する重合体、[B]光酸発生体、及び[C]長鎖アルキル基含有化合物を含有するポジ型感放射線性組成物である。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

[A]同一又は異なる重合体分子中に下記式(1)で表される基を含む構造単位とエポキシ基含有構造単位とを有する重合体、 [B]光酸発生体、及び [C]下記式(2)で表される化合物 を含有するポジ型感放射線性組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  C08G 59/68 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

G03F7/004 501 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  C08G59/68 ,  H01L21/30 502R

Fターム (53件)：

2H092JB56 ,  2H092KB25 ,  2H092NA27 ,  2H125AE13P ,  2H125AF16P ,  2H125AF21P ,  2H125AF35P ,  2H125AF46P ,  2H125AF52P ,  2H125AF70P ,  2H125AH05 ,  2H125AH07 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ14Y ,  2H125AJ42Y ,  2H125AJ44Y ,  2H125AJ63X ,  2H125AJ63Y ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ64Y ,  2H125AJ68X ,  2H125AN02P ,  2H125AN11P ,  2H125AN14P ,  2H125AN32P ,  2H125AN33P ,  2H125AN82P ,  2H125AN85P ,  2H125BA05P ,  2H125BA22P ,  2H125BA26P ,  2H125BA32P ,  2H125BA33P ,  2H125CA12 ,  2H125CB05 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  4J036AJ09 ,  4J036AJ15 ,  4J036AJ17 ,  4J036AK11 ,  4J036DD04 ,  4J036EA01 ,  4J036FA10 ,  4J036FA11 ,  4J036FA12 ,  4J036FB02 ,  4J036FB03 ,  4J036GA22 ,  4J036GA24 ,  4J036GA26 ,  4J036JA09 ,  4J036KA01