特許

J-GLOBAL ID：201103079204421810

揮発性有機塩素化合物の処理方法およびその装置

発明者： 舩石 圭介 ,  関 廣二
出願人/特許権者： アタカ大機株式会社
代理人 (3件)： 樺澤 襄 ,  島宗 正見 ,  樺澤 聡
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-196576
公開番号（公開出願番号）：特開2001-017995
特許番号：特許第4132436号
出願日： 1999年07月09日
公開日（公表日）： 2001年01月23日
請求項（抜粋）：

【請求項1】ジクロルエチレン、トリクロルエチレンおよびテトラクロルエチレンの少なくともいずれか1つの揮発性有機塩素化合物を含有する汚水から前記揮発性有機塩素化合物を抽出し、 この抽出した前記揮発性有機塩素化合物に酸素存在下で紫外線を照射して酸化し親水性の第1次副生成物を生成させ、 この第1次副生成物をアルカリ性から中性の範囲にpH調整した水と接触させて水和させ易分解性の第2次副生成物を生成し、 この第2次副生成物を含有する水に燐化合物および窒素化合物の少なくともいずれか一方を添加して活性炭に担持させた微生物により前記第2次副生成物を分解する ことを特徴とする揮発性有機塩素化合物の処理方法。

IPC (4件)：

C02F 9/00 ( 200 6.01) ,  C02F 1/32 ( 200 6.01) ,  C02F 1/58 ( 200 6.01) ,  C02F 3/10 ( 200 6.01)

FI (9件)：

C02F 9/00 501 B ,  C02F 9/00 502 H ,  C02F 9/00 502 N ,  C02F 9/00 502 Z ,  C02F 9/00 503 C ,  C02F 9/00 504 A ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/58 A ,  C02F 3/10 Z