特許

J-GLOBAL ID：201103079404828745

3-ホルミルテトラヒドロフランの製造方法

発明者： 藤 純市 ,  徳安 仁 ,  尾松 俊宏 ,  大西 孝志
出願人/特許権者： 株式会社クラレ
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-095523
公開番号（公開出願番号）：特開2000-290273
特許番号：特許第4578592号
出願日： 1999年04月01日
公開日（公表日）： 2000年10月17日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 (a) ロジウム化合物、および (b) 式 PR1R2R3 (式中、R1、R2およびR3は、それぞれ置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、または置換基を有していてもよいアラルキル基を表す)で示される単座配位性第3級有機リン化合物の存在下に2,5-ジヒドロフランを水素および一酸化炭素と反応させて3-ホルミルテトラヒドロフランを製造する方法であって、該ロジウム化合物の濃度が反応混合液1リットル当たり0.01〜1ミリモルであり、かつ反応温度が85°C以上であることを特徴とする、3-ホルミルテトラヒドロフランの製造方法。

IPC (3件)：

C07D 307/12 ( 200 6.01) ,  B01J 31/24 ( 200 6.01) ,  C07B 61/00 ( 200 6.01)

FI (3件)：

C07D 307/12 ,  B01J 31/24 X ,  C07B 61/00 300

引用文献：

審査官引用 (3件)

• J.Chem.Soc., Chem.Commun.,, 1990, 600-601
• Organometallics, 1992, vol.11, 3525-3533
• Journal of Organometallic Chemistry, 1983, 244, 289-302