赤外線グリッド偏光子の製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：西岡義明 (外1名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平1-049162
公開番号（公開出願番号）：特開平2-228608
特許番号：特許第2566003号
出願日： 1989年02月28日
公開日（公表日）： 1990年09月11日
請求項（抜粋）：

【請求項1】赤外光に対して吸収の少い耐熱性基板の両面を光学研磨し、同基板の両面に反射防止膜を積層した後、入射側の反射防止膜の上面にAu、ホトレジストをコートし、このホトレジストにホログラフィック露光法で断面正弦半波状のレジストパターンを形成し、このレジストパターンをマスクとしてArイオンビームエッチングを行い、その後残存レジストを灰化除去することにより矩形断面の高密度平行線条よりなるAuの格子パターンを形成させることを特徴とする赤外用グリッド偏光子の製造方法。

IPC (1件)：