水噴霧式ハイドレート製造方法

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出願人/特許権者： ,
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-215808
公開番号（公開出願番号）：特開2001-039900
特許番号：特許第3517832号
出願日： 1999年07月29日
公開日（公表日）： 2001年02月13日
請求項（抜粋）：

【請求項1】ハイドレートのゲスト分子となる気体を圧縮して、反応容器内の気体の圧力がハイドレート生成圧力に達するまで反応容器に送り込み、同時に反応容器内の気体を冷却して、反応容器内の気体のハイドレート生成条件を満たす温度及び圧力にし、しかる後、水を反応容器内の圧力と配管及び水噴霧手段における圧力損失の和として定まる圧力値以上に加圧して、水噴霧手段に供給し、水噴霧手段から反応容器内の気体に向けて水微粒子として噴霧し、気体と水微粒子を接触させ、ハイドレートを生成させることを特徴とする水噴霧式ハイドレート製造方法。

IPC (3件)：