特許
J-GLOBAL ID：201103080098195464
3級アミンの製造法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
古谷 聡
, 古谷 馨
, 溝部 孝彦
, 持田 信二
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-122668
公開番号（公開出願番号）：特開2001-302596
特許番号：特許第4416915号
出願日： 2000年04月24日
公開日（公表日）： 2001年10月31日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 一般式(I)
(式中、R1は炭素数5〜23の直鎖又は分岐鎖の飽和又は不飽和脂肪族炭化水素基、R2及びR3は同一又は異なって、炭素数1〜6の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を示す。)
で表されるアミドを、(イ)Cuと、(ロ)Zn又はNiとを含有する触媒の存在下で還元する、一般式(II)
(式中、R1、R2及びR3は前記の意味を示す。)
で表される3級アミンの製造法。
IPC (4件)：
C07C 209/50 ( 200 6.01)
, B01J 29/072 ( 200 6.01)
, C07C 211/08 ( 200 6.01)
, C07B 61/00 ( 200 6.01)
C07C 209/50
, B01J 29/072 X
, C07C 211/08
, C07B 61/00 300
