特許

J-GLOBAL ID：201103080119100353

プラズマ生成装置およびプラズマ処理装置

発明者： 江部 明憲 ,  安東 靖典 ,  渡邉 正則
出願人/特許権者： 株式会社イー・エム・ディー ,  安東 靖典
代理人 (1件)： 特許業務法人京都国際特許事務所
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2009002234
公開番号（公開出願番号）：WO2009-142016
出願日： 2009年05月21日
公開日（公表日）： 2009年11月26日
要約：

真空容器の一部を兼ねる長方形の開口部を有するフランジに、該開口部を囲む絶縁碍子枠体を挟持して該開口部を覆うように平板状の高周波アンテナ導体13を設ける。当該構造において、高周波アンテナ導体の長辺に沿った一方の端にマッチングボックスを介して高周波電源を接続し、他端を接地して高周波電流が高周波アンテナ導体の一方の端から他方の端に流れるように給電する。これにより、高周波アンテナ導体のインピーダンスを低くすることができ、低電子温度の高密度プラズマを効率よく発生させることができる。

請求項（抜粋）：

a) 真空容器と、 b) 前記真空容器の壁面に設けられた開口部と、 c) 前記開口部を気密に覆うように取り付けられる板状の高周波アンテナ導体と、 を備えることを特徴とするプラズマ生成装置。

IPC (3件)：

H05H 1/46 ,  H01L 21/306 ,  H01L 21/205

FI (4件)：

H05H1/46 L ,  H01L21/302 101B ,  H01L21/302 101C ,  H01L21/205

Fターム (15件)：

5F004BA06 ,  5F004BA20 ,  5F004BB11 ,  5F004BB13 ,  5F004BD01 ,  5F004BD04 ,  5F045AA08 ,  5F045BB02 ,  5F045DP02 ,  5F045EH02 ,  5F045EH04 ,  5F045EH06 ,  5F045EH11 ,  5F045EH12 ,  5F045EH20