特許

J-GLOBAL ID：201103080275259214

液体金属ターゲットシステム

発明者： 林 克己 ,  柏倉 潤 ,  仁田脇 武志 ,  小川 雪郎
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  日立エンジニアリング株式会社
代理人 (1件)： 作田 康夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-121055
公開番号（公開出願番号）：特開2001-296400
特許番号：特許第3769448号
出願日： 2000年04月17日
公開日（公表日）： 2001年10月26日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 加速器により得られる陽子ビームを液体金属のターゲットに照射して核破砕反応を起こすことで中性子を発生させる液体金属ターゲットシステムにおいて、前記液体金属の流路から前記液体金属を受け入れ及び戻し入れる設備と、前記流路を流れる液体金属の酸素濃度を制御する設備とを備えたことを特徴とする液体金属ターゲットシステム。

IPC (4件)：

G21K 5/08 ( 200 6.01) ,  G21F 9/28 ( 200 6.01) ,  G21K 5/00 ( 200 6.01) ,  G21K 5/02 ( 200 6.01)

FI (5件)：

G21K 5/08 N ,  G21F 9/28 521 D ,  G21F 9/28 525 D ,  G21K 5/00 S ,  G21K 5/02 N