特許
J-GLOBAL ID：201103080505654401

真空蒸着方法及びその装置

発明者：
松浦 宏育

松浦 宏育 について

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土井 秀明

土井 秀明 について

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加藤 昇

加藤 昇 について

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韮沢 信広

韮沢 信広 について


出願人/特許権者：
株式会社日立ハイテクノロジーズ

株式会社日立ハイテクノロジーズ について


代理人 (1件)： ポレール特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-124652
公開番号（公開出願番号）：特開2011-042868
出願日： 2010年05月31日
公開日（公表日）： 2011年03月03日
要約：
【課題】基板上に膜厚が均一な薄膜を形成可能な有機ELデバイス製造装置及び成膜装置を提供する。【解決手段】有機ELデバイスの製造装置において、蒸発させた蒸着材料を線上に配置した複数のノズルを介して真空槽の内部に放出させる蒸発源の各ノズルからの有機EL材料の蒸発量を、蒸発量モニタ手段で各ノズルにモニタし、このモニタした各ノズルの有機EL材料の蒸発量の情報を用いて制御手段で蒸発源を制御するようにした。【選択図】図16
請求項（抜粋）：
真空排気されたチャンバ内において、基板に加熱により気化された蒸着材料を蒸着する蒸着装置であって、 基板を保持する基板保持手段と、 蒸着材料を気化させてノズルから放出する一方向に長い形状を有する蒸発源と、 前記蒸発源の長い一方向と垂直な方向に前記蒸発源又は前記基板を保持する基板保持手段の少なくとも一方を移動させる第1の移動手段と、 前記蒸発源からの前記蒸着材料の放出レートを検出する検出手段と、 前記蒸発源又は前記検出手段の少なくとも一方を前記蒸発源の長い一方向(長手方向)と平行に移動させる第2の移動手段と、 前記基板保持手段と前記蒸発源と前記第1の移動手段と前記検出手段と前記第2の移動手段とを制御する制御手段とを備え、 該制御手段で前記第2の移動手段を制御して前記検出手段又は前記蒸発源の少なくとも一方を移動させることにより前記蒸発源の放出レートの前記長手方向の分布を計測することを特徴とする真空蒸着装置。
IPC (1件)：
C23C 14/24
FI (2件)：
C23C14/24 U ,  C23C14/24 C
Fターム (13件)：
4K029AA24 ,  4K029BA62 ,  4K029BB03 ,  4K029CA01 ,  4K029DA12 ,  4K029DB06 ,  4K029DB12 ,  4K029DB14 ,  4K029DB18 ,  4K029EA02 ,  4K029HA01 ,  4K029KA01 ,  4K029KA09
引用特許：
審査官引用 (4件)
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