特許

J-GLOBAL ID：201103080549312940

基板保持装置、露光装置、デバイス製造方法、及び基板保持装置の調整方法

発明者： 青木 保夫 ,  長島 雅幸 ,  平本 喜靖 ,  吉田 亮平
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 立石 篤司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-205813
公開番号（公開出願番号）：特開2011-060823
出願日： 2009年09月07日
公開日（公表日）： 2011年03月24日
要約：

【課題】基板ホルダにおける基板載置面の平面度を迅速に調整する。【解決手段】基板ステージPSTは、基板ホルダPHの下面を押圧して基板ホルダPHの上面を上方に押し上げる押しネジ81と、基板ホルダPHを微動ステージ21に引き寄せることにより基板ホルダPHの上面をへこませる引きネジ82と、を含むネジユニット83を複数有している。従って、基板ホルダPH上面の平面度の計測と並行して、その複数のネジユニット83を適宜用いて基板ホルダPHの平面度を調整できる。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

所定の二次元平面に平行な平板状に形成され、その一面側に基板を保持する保持部材と; 前記保持部材の他面側に所定の間隔で配置され、その少なくとも一部で前記保持部材を支持する支持部材と; 前記支持部材及び前記保持部材の少なくとも一方に取り付けられ、前記保持部材と前記支持部材との前記二次元平面に直交する方向の間隔を互いに異なる複数箇所で調整可能な調整装置と;を備える基板保持装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  H01L 21/683 ,  G03F 7/20

FI (4件)：

H01L21/30 503B ,  H01L21/68 P ,  H01L21/30 515G ,  G03F7/20 501

Fターム (30件)：

2H097BA02 ,  2H097GB02 ,  2H097LA12 ,  5F031CA05 ,  5F031HA12 ,  5F031HA53 ,  5F031HA57 ,  5F031HA58 ,  5F031HA59 ,  5F031JA01 ,  5F031JA14 ,  5F031JA30 ,  5F031JA32 ,  5F031KA06 ,  5F031KA07 ,  5F031KA08 ,  5F031MA27 ,  5F031PA18 ,  5F046CC01 ,  5F046CC03 ,  5F046CC04 ,  5F046CC08 ,  5F046CC10 ,  5F046CC11 ,  5F146CC01 ,  5F146CC03 ,  5F146CC04 ,  5F146CC08 ,  5F146CC10 ,  5F146CC11