特許
J-GLOBAL ID:201103080713741105
光学式記録構造体における改良された3次元構成の配置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (9件):
中村 稔
, 大塚 文昭
, 熊倉 禎男
, 宍戸 嘉一
, 今城 俊夫
, 小川 信夫
, 村社 厚夫
, 西島 孝喜
, 箱田 篤
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-544740
特許番号:特許第3776430号
出願日: 2001年10月31日
請求項(抜粋):
【請求項1】検索可能なデータを選択的に格納するために第1の3次元構成を層に表示する光学式記録構造体において、上記第1の構成の少なくとも一部分は上記層の第1のレベルから垂直方向に変位し、上記第1の構成は上記第1のレベルに平行な第1の主軸と、上記主軸に垂直でかつ上記第1のレベルに平行な第1の横軸と、上記第1の主軸及び上記第1のレベルの両方に垂直な第1の垂直軸とを有する光学式記録構造体であって、
さらに、上記第1の構成は、
a.横断面によって規定される上記第1の構成の外形は、上記第1の構成の一方の横方向エッジにおいて上記第1のレベルより変位を開始するポイントから、上記第1の構成の反対側の横方向エッジに至るポイントまでの傾斜に不連続性を示さず、
b.上記第1のレベルに関し上記第1の垂直軸に沿った第1の構成の範囲は、0.25ミクロンよりも小さく、上記第1の横軸に沿った第1の構成の範囲は、1ミクロンよりも小さく、上記第1の主軸に沿った第1の構成の範囲は、上記第1の横軸に沿った第1の構成の範囲の少なくとも2倍あり、
c.上記第1の垂直軸に沿った第1の垂直方向における上記第1のレベルからの上記第1の構成の最大変位の、上記第1の垂直方向とは逆の垂直方向における変位に対する比率が、0.2を超える値を除くことを特徴とする光学式記録構造体。
IPC (2件):
G11B 7/24 ( 200 6.01)
, G11B 7/26 ( 200 6.01)
FI (7件):
G11B 7/24 561 C
, G11B 7/24 563 G
, G11B 7/24 563 H
, G11B 7/24 565 J
, G11B 7/24 565 K
, G11B 7/24 565 M
, G11B 7/26 501
引用特許:
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