特許
J-GLOBAL ID:201103080845700904

再帰反射要素の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件): 石田 敬 ,  鶴田 準一 ,  福本 積 ,  西山 雅也 ,  樋口 外治
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-577018
特許番号:特許第4261063号
出願日: 1999年07月29日
請求項(抜粋):
【請求項1】 露出レンズ光学要素を含む再帰反射要素の製造方法であって、 (a)露出レンズ部分表面及び埋設レンズ部分表面を有する露出レンズ光学要素の単層、前記光学要素が部分的に埋設された間隔層、および前記間隔層に隣接した反射層を含む少なくとも1つの再帰反射物品であって、前記光学要素の平均半径に対する前記間隔層の平均厚さは、式[-3.99*(光学素子屈折率)+7.2]±0.20により計算されるような再帰反射物品を提供するステップと、 (b)コア層を形成するステップと、 (c)前記再帰反射物品を前記コア層に取付け、再帰反射複合材料を得るステップと、 (d)前記複合材料を再帰反射要素に分割するステップと、 を特徴とする、再帰反射要素の製造方法。
IPC (3件):
E01F 9/04 ( 200 6.01) ,  G02B 5/128 ( 200 6.01) ,  G09F 19/22 ( 200 6.01)
FI (3件):
E01F 9/04 ,  G02B 5/128 ,  G09F 19/22 H
引用特許:
審査官引用 (1件)

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