特許
J-GLOBAL ID:201103080905086542
アークイオンプレーティング装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
梶 良之
, 須原 誠
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-113209
公開番号(公開出願番号):特開2001-348661
特許番号:特許第3605373号
出願日: 2001年04月11日
公開日(公表日): 2001年12月18日
請求項(抜粋):
【請求項1】真空チャンバと、該真空チャンバ内に設けられアークを発生させる蒸発源とを含み、ワーク表面に被覆を行うアークイオンプレーティング装置において、該装置は前記ワークを保持するワークテーブルを持ち、前記ワークは該テーブル上の周囲に配置されており、該テーブルには、前記真空チャンバへの被覆を防止するシールド板及び前記ワークが配置されていて、該シールド板と前記テーブルとが一緒に前記真空チャンバ内に搬入され、搬出されることを特徴とするアークイオンプレーティング装置。
IPC (2件):
FI (3件):
C23C 14/32 D
, C23C 14/32 A
, C23C 14/56 B
引用特許:
審査官引用 (4件)
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特開平3-090566
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特開平4-183863
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特開平1-240660
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