ハロゲン化ホスホニトリルの製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：曾我道治 , 池谷豊 , 古川秀利 , 鈴木憲七 , 福井宏司 , 望月孜郎
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-349329
公開番号（公開出願番号）：特開2000-198848
特許番号：特許第4580487号
出願日： 1999年12月08日
公開日（公表日）： 2000年07月18日
請求項（抜粋）：

【請求項1】式:(X(PX2=N)aPX3)+A-(式中、Xはハロゲンを示し、AはXまたは(PX6)-を示し、さらに、aは1〜9の整数である)のハロゲン化ホスホニトリルの製造方法であって、不活性非塩素化炭化水素溶媒中で、冷却下に、PX5およびジシラザンを反応させる第1工程と、ハロゲン化ホスホニトリルを製造するに充分な時間、50°C以上の温度に該反応混合物を加熱する第2工程と、を含むことを特徴とする方法。

IPC (2件)：