特許

J-GLOBAL ID：201103081208523540

マスク保持装置、露光装置、及びデバイスの製造方法

発明者： 山本 一
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (2件)： 恩田 博宣 ,  恩田 誠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-249144
公開番号（公開出願番号）：特開2011-096844
出願日： 2009年10月29日
公開日（公表日）： 2011年05月12日
要約：

【課題】マスクのパターン形成領域の平面性を確保しつつ、マスクを保持することができるマスク保持装置、露光装置、露光方法、及びデバイスの製造方法を提供する。【解決手段】所定のパターンが形成されたパターン形成領域43及び該パターン形成領域43の周囲の周辺領域44を有する表面Rbと、該表面Rbの裏側の裏面Raとが形成されたレチクルRを保持する第1静電吸着保持装置25において、レチクルRの裏面Raを静電吸着する支持面37aを有する基体37と、基体37に設けられ、パターン形成領域43を含む大きさで形成された電極面39aを有する第1電極部39と、基体37に設けられ、第1電極部39の周囲に配置された第2電極部40と、を備える。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

所定のパターンが形成されたパターン形成領域及び該パターン形成領域の周囲の周辺領域を有する第1面と、前記第1面の裏側の第2面とが形成されたマスクを保持するマスク保持装置において、 前記マスクの前記第2面を静電吸着する吸着面を有する基体と、 前記基体に設けられ、前記パターン形成領域を含む大きさで形成された電極面を有する第1電極部と、 前記基体に設けられ、前記第1電極部の周囲に配置された第2電極部と、 を備えることを特徴とするマスク保持装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  H01L 21/683 ,  H02N 13/00

FI (5件)：

H01L21/30 515F ,  H01L21/30 516A ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/68 R ,  H02N13/00 D

Fターム (25件)：

5F031CA07 ,  5F031HA18 ,  5F031MA27 ,  5F031NA05 ,  5F031PA14 ,  5F046BA03 ,  5F046CB17 ,  5F046CC02 ,  5F046CC09 ,  5F046CC11 ,  5F046DA05 ,  5F046DA06 ,  5F046DA12 ,  5F046DB04 ,  5F046DC05 ,  5F146BA03 ,  5F146CB17 ,  5F146CC02 ,  5F146CC09 ,  5F146CC11 ,  5F146DA05 ,  5F146DA06 ,  5F146DA12 ,  5F146DB04 ,  5F146DC05