特許
J-GLOBAL ID：201103081219742499
マグネトロンスパッタ装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
安田 敏雄
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-228377
公開番号（公開出願番号）：特開2000-129438
特許番号：特許第3766569号
出願日： 1999年08月12日
公開日（公表日）： 2000年05月09日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板(2)の外周に複数のマグネトロン蒸発源(3)が設けられ、マグネトロン蒸発源(3)より蒸発した金属原子又はイオンを、基板(2)に付着させて基板(2)に薄膜を形成するようにしたマグネトロンスパッタ装置において、
隣合うマグネトロン蒸発源(3)の中間位置に、マグネトロン蒸発源(3)の外側磁極(4)の極性と相異なる極性を持った補助磁極(9)が配置され、各々のマグネトロン蒸発源(3)の外側磁極(4)の極性がすべて同一とされていることを特徴とするマグネトロンスパッタ装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
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