斜め配向方法及び斜め配向装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小池晃 (外2名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平1-168817
公開番号（公開出願番号）：特開平3-035420
特許番号：特許第2822212号
出願日： 1989年06月30日
公開日（公表日）： 1991年02月15日
請求項（抜粋）：

【請求項1】磁性塗膜面に略垂直な磁界成分と磁性塗膜面に略平行な磁界成分を同時に印加し、当該磁性塗膜に含まれる磁性粉を前記磁性塗膜面に対して斜めに配向させることを特徴とする斜め配向方法。

IPC (1件)：