特許
J-GLOBAL ID:201103081456855877
反応性スパッタリング装置のカスケード制御
発明者:
,
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出願人/特許権者:
代理人 (7件):
中村 稔
, 大塚 文昭
, 宍戸 嘉一
, 竹内 英人
, 今城 俊夫
, 小川 信夫
, 村社 厚夫
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-109755
公開番号(公開出願番号):特開2000-026967
特許番号:特許第4560151号
出願日: 1999年04月16日
公開日(公表日): 2000年01月25日
請求項(抜粋):
【請求項1】 化合物の層を反応性スパッタリング法により被着させることを制御する方法であって、
ターゲットを反応性雰囲気中でスパッタする工程と、
第1のプロセスパラメータをモニターする工程と、
第1の制御ループで第1のプロセスパラメータに応答して電源電流を制御する第1の入力修正工程と、
第2のプロセスパラメータをモニターする工程と、
第2の制御ループで第2のプロセスパラメータに応答して反応性ガス入力レベルを制御する第2の入力修正工程と、
を有し、前記第1の制御ループは、前記第2の制御ループよりも迅速であることを特徴とする方法。
IPC (3件):
C23C 14/34 ( 200 6.01)
, H01L 21/316 ( 200 6.01)
, H01L 21/203 ( 200 6.01)
FI (3件):
C23C 14/34 U
, H01L 21/316 Y
, H01L 21/203 S
引用特許:
審査官引用 (3件)
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特開昭55-161067
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特開昭57-161063
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特開昭63-202806
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