特許
J-GLOBAL ID：201103081673250347
カラーフィルタおよびその製造方法、電気光学装置、電子機器
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
布施 行夫
, 大渕 美千栄
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-236923
公開番号（公開出願番号）：特開2001-066408
特許番号：特許第3894261号
出願日： 1999年08月24日
公開日（公表日）： 2001年03月16日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 以下の工程(a)〜(d)を含む、カラーフィルタの製造方法。
(a)透明な基板上に、所定のマトリクスパターンを有する遮光層を形成する工程、
(b)前記遮光層上に、所定のマトリクスパターンを有するバンク層を形成する工程であって、前記バンク層は、その底面の周縁が前記遮光層の周縁より内側に位置して、該遮光層の上面の一部が露出する状態で形成される工程、
(c)前記遮光層およびバンク層によって区画される着色層形成領域に着色層を形成する工程であって、該着色層は、前記基板上にインクジェットプンリンティングヘッドを用いてインクが付与されて形成され、前記着色層の周縁部が前記遮光層の上面の露出面上に重なる状態で形成され、前記着色層の厚みは、前記遮光層の厚みおよび前記バンク層の厚みの合計の厚みよりも薄く形成される工程、および
(d)前記工程(c)の前に、前記バンク層および前記基板のインクに対する濡れ性を制御するために、前記バンク層の表面および前記基板の表面の水に対する接触角の差が15 ゚以上となるように、表面処理が行われる工程。
IPC (2件)：
G02B 5/20 ( 200 6.01)
, G02F 1/1335 ( 200 6.01)
G02B 5/20 101
, G02F 1/133 505
