特許
J-GLOBAL ID：201103081696188312
着色パターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (9件)：
三枝 英二
, 掛樋 悠路
, 小原 健志
, 中川 博司
, 舘 泰光
, 斎藤 健治
, 藤井 淳
, 関 仁士
, 中野 睦子
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-099411
公開番号（公開出願番号）：特開2001-281436
特許番号：特許第4366549号
出願日： 2000年03月31日
公開日（公表日）： 2001年10月10日
請求項（抜粋）：
【請求項1】(i)(a)一般式
[式中、Rは、水素原子、水酸基、アルキル基、アルケニル基、アリールアルキル基、アリール基、アルコキシル基またはシリル基を示す。Rは、全てが同一でも或いは2つ以上が異なっていてもよい。x、y、zは、それぞれ0以上の数を示し、x、yおよびzの和は5〜400であり、かつ(y+z)/(x+y+z)が0.15以下である。]で表されるポリシラン100重量部、および
(b)一般式
[式中、Rは、水素原子、水酸基、アルキル基、アルケニル基、アリールアルキル基、アリール基、アルコキシル基またはシリル基を示す。Rは、全てが同一でも或いは2つ以上が異なっていてもよい。nは4〜20である。]で表される環状シラン化合物10〜200重量部
を含有してなる感光性樹脂組成物からなる薄膜を選択的に露光することにより、露光部分に着色パターンの潜像を形成する工程、ならびに
(ii)着色パターンの潜像が形成された前記露光部分を、染料または顔料を含む着色液で着色する工程
を含む着色パターン形成方法。
IPC (6件)：
G02B 5/20 ( 200 6.01)
, C08K 5/00 ( 200 6.01)
, C08K 5/549 ( 200 6.01)
, C08L 83/04 ( 200 6.01)
, C08L 83/16 ( 200 6.01)
, G03F 7/075 ( 200 6.01)
G02B 5/20 101
, C08K 5/00
, C08K 5/549
, C08L 83/04
, C08L 83/16
, G03F 7/075 511
