特許
J-GLOBAL ID：201103082024810372
膜厚測定装置及び膜厚測定方法
発明者：
,
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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
世良 和信
, 川口 嘉之
, 金井 廣泰
, 関根 武彦
, 中村 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-157931
公開番号（公開出願番号）：特開2011-013110
出願日： 2009年07月02日
公開日（公表日）： 2011年01月20日
要約：
【課題】基板上に成膜された薄膜の厚さを精度良く測定可能な膜厚測定装置及び膜厚測定方法を提供する。【解決手段】ガラス基板2上に成膜されて且つレーザ加工装置1から照射される加工用レーザによってスクライブ溝Gvが形成される薄膜の厚さを測定する膜厚測定装置6であって、レーザ加工装置1から薄膜に照射された加工用レーザのガラス基板2平面内における照射位置が格納された照射位置情報に基づいて、検査対象薄膜3aに形成されたスクライブ溝Gvの位置を特定する。そして、特定した位置に形成されているスクライブ溝Gvの深さを測定し、その測定値に基づいて検査対象薄膜3aの厚さを取得する。【選択図】図6
請求項（抜粋）：
基板上に成膜されて且つレーザ加工装置から照射される加工用レーザによって溝が形成される薄膜の厚さを測定する膜厚測定装置であって、
前記レーザ加工装置から薄膜に照射された加工用レーザの前記基板平面内における照射位置が少なくとも格納された照射位置情報に基づいて、膜厚測定対象となる薄膜に形成された溝の位置を特定する溝形成位置特定手段と、
前記溝形成位置特定手段により特定された位置に形成されている溝の深さを測定し、その測定値に基づいて膜厚測定対象となる薄膜の厚さを取得する膜厚取得手段と、
を備えることを特徴とする膜厚測定装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (20件)：
2F065AA25
, 2F065AA30
, 2F065BB02
, 2F065BB05
, 2F065BB27
, 2F065CC17
, 2F065DD04
, 2F065DD11
, 2F065FF10
, 2F065MM11
, 2F065NN20
, 2F065PP03
, 2F065PP12
, 2F065PP24
, 2F065QQ01
, 2F065QQ25
, 2F065QQ42
, 2F065RR06
, 2F065TT02
, 2F065TT08
