特許

J-GLOBAL ID：201103082075578903

インパルス応答合成方法および残響付与方法

発明者： 高橋 義典 ,  東山 三樹夫 ,  藤田 啓明
出願人/特許権者： 学校法人早稲田大学 ,  ヤマハ株式会社
代理人 (1件)： 松本 隆
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-031416
公開番号（公開出願番号）：特開2007-212675
特許番号：特許第4286840号
出願日： 2006年02月08日
公開日（公表日）： 2007年08月23日
請求項（抜粋）：

【請求項1】所望の音源・受音点間距離に対応したインパルス応答の最小位相成分の位相特性の分散を算出する分散算出過程と、 前記分散算出過程において算出された分散を有する雑音を作成し、この雑音の周波数成分を算出する雑音作成過程と、 予め求めた所望の音源・受音点間距離に対応したインパルス応答の最小位相成分の位相特性の周波数勾配を持つように、前記雑音作成過程において算出された雑音の周波数成分を処理することにより、最小位相成分の位相特性を求めるトレンド付与過程と、 前記最小位相成分の位相特性を用いて、残響付与に用いるインパルス応答を合成する合成過程とを具備し、 前記合成過程が、 前記最小位相成分の位相特性から最小位相成分の振幅特性を算出する過程と、 前記最小位相成分の振幅特性および位相特性からインパルス応答の最小位相成分を算出する過程と、 白色雑音に所望の残響時間に応じた指数時間減衰窓を乗じてインパルス応答のオールパス成分を算出する過程と、 前記インパルス応答の最小位相成分に前記インパルス応答のオールパス成分を畳み込んでインパルス応答を合成する過程と を具備することを特徴とするインパルス応答合成方法。

IPC (2件)：

G10K 15/00 ( 200 6.01) ,  H04S 1/00 ( 200 6.01)

FI (2件)：

G10K 15/00 M ,  H04S 1/00 K