特許
J-GLOBAL ID:201103082209252376

新規な9?アミノアクリジン誘導体及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 三品 岩男
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-589519
特許番号:特許第3712361号
出願日: 1999年12月17日
請求項(抜粋):
【請求項1】 下記一般式(I)で表わされる化合物、又は、その薬学的に許容可能な塩。;;化1:: ここで、Aは水素原子、又は、;;化2::(ここで、Xは酸素原子又は硫黄原子、R1、R2、R3、R4及びR5はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基、ヒドロキシ基、C1?C4の低級アルキルアミノ基、C1?C8のアルキル基、C1?C4の低級アルコキシ基、又は、C1?C4の低級アルキルカルボニル基であり、m及びnはそれぞれ独立に0,1又は2である)であり、 R6、R7、R8及びR9は、それぞれ水素原子であり、 Yは?N=CHR’(ここで、R’は水素原子、ベンジル基、C1?C8のアルキル基又はC1?C6の低級アルキルアミノ基)、;;化3::(ここで、R”は水素原子、ベンジル基、C1?C8のアルキル基又はC1?C6の低級アルキルアミノ基であり、R'''は水素原子、ベンジル基、C1?C8のアルキル基、ベンジルオキシカルボニル基、t?ブトキシカルボニル基、2,2,2?トリクロロエトキシカルボニル基、メトキシカルボニル基又は2?メチルスルホニルエトキシカルボニル基である)、又は、;;化4::(ここで、Xは前述の通りであり、R1’、R2’、R3’、R4’及びR5’は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基、ヒドロキシ基、C1?C4の低級アルキルアミノ基又はC1?C8のアルキル基、C1?C4の低級アルコキシ基又はC1?C4の低級アルキルカルボキシ基であり、q及びrは、それぞれ独立に、0,1又は2である)である。
IPC (3件):
C07D 219/10 ,  A61K 31/473 ,  A61P 35/00
FI (3件):
C07D 219/10 ,  A61K 31/473 ,  A61P 35/00

前のページに戻る