特許
J-GLOBAL ID：201103082280636908
低圧鋳型鋳造装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
江崎 光史 (外3名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-137559
公開番号（公開出願番号）：特開2000-000652
特許番号：特許第3091745号
出願日： 1999年05月18日
公開日（公表日）： 2000年01月07日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 鋳型(66)を扱う共通の回転軸(20)に対して等間隔(R)に配置された二つのマニプレータ(46)の共通の回転軸(20)を定める枠組(10)と、回転軸(20)の周りのマニプレータ(46)の移動軌跡(68)に沿って配置した作業ステーション(70)に対して共通の回転軸(20)の周りにマニプレータ(46)を移動させる駆動装置とを備えた低圧鋳型鋳造装置において、両方のマニプレータ(46)が回転軸(20)の周りに約 80 °〜約 280°の範囲で互いに無関係に回転可能に支承され、各マニプレータ(46)に固有の回転駆動部(30,32)が付属していることを特徴とする鋳造装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
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