特許
J-GLOBAL ID:201103082382809696

CO2レーザーに用いるガス及びCO2レーザーによる作業方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 八木田 茂 (外3名)
公報種別:特許公告
出願番号(国際出願番号):特願平1-510492
出願日: 1989年09月25日
請求項(抜粋):
【請求項1】少なくともヘリウム、窒素及び二酸化炭素(CO2)を含む種類のあらかじめ混合されたレーザー用ガスにおいて、前記各ガスが、99.995%以下の純度、5vpm以下の水分含量及び5vpm以下の炭化水素総含量を有することを特徴とするCO2レーザー用ガス。
IPC (1件):
H01S 3/22
FI (1件):
H01S 3/22 Z

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