特許
J-GLOBAL ID:201103082556979030
光学試料体並びにその書込みおよび読出し方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (3件):
特許業務法人原謙三国際特許事務所
, 特許業務法人原謙三国際特許事務所
, 原 謙三
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-158612
公開番号(公開出願番号):特開2000-348377
特許番号:特許第4290279号
出願日: 1999年06月04日
公開日(公表日): 2000年12月15日
請求項(抜粋):
【請求項1】熱あるいは光照射により化学変化を起こして屈折率変化領域を生じ、前記化学変化が可逆的である材料により形成されたマスク層と、
このマスク層に光を照射したときに前記屈折率変化領域にて生じるエバネッセント場が到達可能な位置に設けられた試料層とを備えていることを特徴とする光学試料体。
IPC (3件):
G11B 7/24 ( 200 6.01)
, G03C 1/73 ( 200 6.01)
, G11B 7/004 ( 200 6.01)
FI (5件):
G11B 7/24 522 A
, G11B 7/24 535 B
, G11B 7/24 538 A
, G03C 1/73
, G11B 7/004 Z
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