特許

J-GLOBAL ID：201103082566723921

検査方法および検査装置

発明者： 坂口 直史
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大西 正悟
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-280719
公開番号（公開出願番号）：特開2011-122935
出願日： 2009年12月10日
公開日（公表日）： 2011年06月23日
要約：

【課題】ウェハ表面の膜の端部の高さを精度よく測定可能な検査方法を提供する。【解決手段】ステージによりウェハを略水平に支持した状態で、高さ検出器によりウェハの平面部の高さ位置を検出するステップS101と、上ベベル部に位置する膜の端部に合焦させた状態で、撮像部により膜の端部を撮像するステップS102と、データ処理部により、ステップS102で撮像した膜の端部の画像に基づいて膜の端部の高さ位置を検出し、ステップS101で検出した平面部の高さ位置と膜の端部の高さ位置との差から、ウェハの平面部に対する膜の端部の降下量を求めるステップS103とを有している。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

平面部および前記平面部の端部に繋がって下方に傾斜した傾斜部を有するとともに、上面に膜が形成された基板を支持するステージと、前記ステージに支持された前記基板の端部を前記基板の平面の延在する方向から撮像する撮像部と、前記撮像部に撮像された前記基板の端部の画像に基づいて前記基板の端部を検査する処理部とを備えた検査装置による検査方法であって、 前記ステージにより前記基板を支持した状態で、高さ検出器により前記ステージに対する前記平面部の高さ位置を検出する検出ステップと、 前記撮像部により、前記傾斜部に位置する前記膜の端部に合焦させた状態で、前記膜の端部を前記基板の平面の延在する方向から撮像する膜撮像ステップと、 前記処理部により、前記膜撮像ステップで撮像した前記膜の端部の画像に基づいて前記ステージに対する前記膜の端部の高さ位置を検出し、前記検出ステップで検出した前記平面部の高さ位置と前記膜の端部の高さ位置との差から、前記平面部に対する前記膜の端部の降下量を求める高さ演算ステップとを有することを特徴とする検査方法。

IPC (3件)：

G01B 11/24 ,  G01N 21/956 ,  G01B 11/02

FI (3件)：

G01B11/24 K ,  G01N21/956 A ,  G01B11/02 H

Fターム (31件)：

2F065AA12 ,  2F065AA24 ,  2F065AA46 ,  2F065BB03 ,  2F065CC19 ,  2F065CC31 ,  2F065DD04 ,  2F065FF01 ,  2F065FF04 ,  2F065FF10 ,  2F065HH02 ,  2F065HH13 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ09 ,  2F065JJ26 ,  2F065MM04 ,  2F065PP12 ,  2F065PP13 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ41 ,  2F065RR05 ,  2G051AA51 ,  2G051AB07 ,  2G051AC04 ,  2G051BB01 ,  2G051CA04 ,  2G051CB05 ,  2G051DA08 ,  2G051DA15 ,  2G051EB01