ガスプラズマ処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：斎藤侑 (外2名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-259147
公開番号（公開出願番号）：特開平9-245936
特許番号：特許第3002865号
出願日： 1989年09月29日
公開日（公表日）： 1997年09月19日
請求項（抜粋）：

【請求項1】ガス状物質の入口及び出口を有する金属製ケーシング内にコロナ放電素子及びこれに対向して一定の距離だけ離れて設けた誘導電極よりなるコロナ放電体を収め、該コロナ放電素子にパルス形成コンデンサと高圧電源及び高速スイッチとからなるパルス電源の該パルス形成コンデンサの出力端を、また該誘導電極を該金属製ケーシングと共にパルス電源の接地側に接続するガスプラズマ処理装置において、該コロナ放電体のコロナ放電素子を複数に分割し、かつ該パルス形成コンデンサを各コロナ放電素子に対応して分割し、前記それぞれのコロナ放電素子に前記夫々のパルス形成コンデンサの出力端を接続することを特徴とするガスプラズマ処理装置。

IPC (5件)：

B01D 53/32 , B01J 19/08 , H01T 19/00 , H01T 23/00 , H05H 1/46

FI (5件)：

B01D 53/32 , B01J 19/08 E , H01T 19/00 , H01T 23/00 , H05H 1/46 M

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開昭62-289249
特開昭62-289249
特開昭63-056972

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