特許
J-GLOBAL ID:201103083183842850

極薄金属帯板用洗浄装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 秋沢 政光 (外1名)
公報種別:特許公告
出願番号(国際出願番号):特願平1-040021
公開番号(公開出願番号):特開平2-217500
出願日: 1989年02月20日
公開日(公表日): 1990年08月30日
請求項(抜粋):
【請求項1】洗浄槽と入側シンクロールおよび出側シンクロールと陽極および陰極と帯板保持装置とからる金属帯板用洗浄装置において、前記入側シンクロールおよび出側シンクロールは軸が帯板の搬送方向と直角にかつロール下面が洗浄液の液面下となるように洗浄槽内に設けられ、前記陽極及び陰極はそれぞれ上電極と下電極を備えて帯板の搬送方向に沿って順に配置され、前記上電極と下電極は帯板のパスラインに対する傾斜角度を調整する機構を有し、入側の前記上電極と下電極の間隔は帯板の搬送方向に沿って末広がり状に、また、出側の前記上電極と下電極の間隔は狭まる様に配置され、帯板保持装置は陽極と陰極の間に配置されて上ノズルと下ノズルを備え、上ノズルと下ノズルがパスラインを間にして上下に対向して設けられていることを特徴とする極薄金属帯板用洗浄装置。
IPC (3件):
C25F 7/00 C ,  C25F 7/00 F ,  C25F 7/00 K
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • 特公昭56-043320
  • 特公昭61-022040
  • 特開昭61-207595

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