特許
J-GLOBAL ID:201103083289844216

揮発性有機塩素系化合物に汚染された難透水性地盤の浄化方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 古谷 史旺 ,  鈴木 榮祐
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-231569
公開番号(公開出願番号):特開2001-054784
特許番号:特許第3764304号
出願日: 1999年08月18日
公開日(公表日): 2001年02月27日
請求項(抜粋):
【請求項1】 揮発性有機塩素系化合物に汚染された粘性土層の周囲に配置した複数の井戸により粘性土層上層の帯水層に温水を循環させて粘性土表面を効率よく加熱し、汚染物質の粘性土層からの脱着を促進させる工程と、 全ての前記井戸で揚水することにより揮発性有機塩素系化合物に汚染された粘性土層上層を不飽和とし、揮発性有機塩素系化合物に汚染された粘性土層に配置した浄化井戸で真空ガス吸引を行い粘性土層を浄化する工程 とを有することを特徴とする揮発性有機塩素系化合物に汚染された難透水性地盤の浄化方法。
IPC (2件):
B09C 1/00 ( 200 6.01) ,  B09C 1/06 ( 200 6.01)
FI (2件):
B09B 5/00 ZAB S ,  B09B 3/00 303 P

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