特許

J-GLOBAL ID：201103083314284638

レジスト組成物

発明者： 市川 幸司 ,  山本 敏
出願人/特許権者： 住友化学株式会社
代理人 (2件)： 中山 亨 ,  坂元 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-096027
公開番号（公開出願番号）：特開2011-253179
出願日： 2011年04月22日
公開日（公表日）： 2011年12月15日
要約：

【課題】パターンを形成する際のマスクエラーファクター(MEF)及びフォーカスマージン(DOF)に優れるレジスト組成物を提供する。【解決手段】式(I)で表される基及び式(II)で表される基を有し、酸に不安定な基を有さない重合体と、酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸との作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、酸発生剤とを含むレジスト組成物。[R1は、炭素数1〜6のフッ化アルキル基を表す。R2は、炭素数1〜6のフッ化アルキル基を表す。R3は、水素原子又は炭素数1〜6のフッ化アルキル基を表す。*は結合手を表す。]【選択図】なし

請求項（抜粋）：

式(I)で表される基及び式(II)で表される基を有し、酸に不安定な基を有さない重合体と、酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸との作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、酸発生剤とを含むレジスト組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027 ,  C08F 220/38 ,  C08F 220/28

FI (5件)：

G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  H01L21/30 502R ,  C08F220/38 ,  C08F220/28

Fターム (43件)：

2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AH04 ,  2H125AH16 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH23 ,  2H125AH25 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AM22P ,  2H125AM94P ,  2H125AM99P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN65P ,  2H125AN88P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA03Q ,  4J100BA28P ,  4J100BA58P ,  4J100BB18P ,  4J100BB18Q ,  4J100BC04Q ,  4J100BC08Q ,  4J100CA04 ,  4J100DA01 ,  4J100JA38