特許
J-GLOBAL ID:201103083547776336
有機エレクトロニクスパネルの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-189002
公開番号(公開出願番号):特開2011-040336
出願日: 2009年08月18日
公開日(公表日): 2011年02月24日
要約:
【課題】有機エレクトロニクスパネルの有機機能層を塗布法で製造する際、有機機能層の不要領域を払拭方式で除去する時、ゴミの発生防止、払拭残りに伴うショートやダークスポットの発生防止、素子寿命が長寿命化し、性能品質が安定している有機エレクトロニクスパネルの製造方法の提供。【解決手段】基材の上に、第1電極と、第2電極と、前記第1電極と前記第2電極との間に有機物層を含む少なくとも1層の有機機能層及び封止層とを有する有機エレクトロニクスパネルの製造方法において、少なくとも、第1電極形成工程と、前記有機機能層を形成する有機機能層形成工程と、前記有機機能層のパターニング工程と、引き続き、前記パターニングした前記有機機能層を有する前記基材の全面をクリーニングするクリーニング工程とを有する有機エレクトロニクスパネルの製造方法。【選択図】図1
請求項(抜粋):
基材の上に、第1電極と、第1電極用外部接続用電極と、第2電極と、第2電極用外部接続用電極と、前記第1電極と前記第2電極との間に有機物層を含む少なくとも1層の有機機能層及び封止層とを有する有機エレクトロニクスパネルの製造方法において、
少なくとも、前記第1電極用外部接続用電極を形成する部分を含む第1電極を形成する第1電極形成工程と、
前記第1電極を含む前記基材の全面に少なくとも1層の有機機能層を形成する有機機能層形成工程と、
前記有機機能層の不要領域を除去しパターニングするパターニング工程と、
引き続き、前記パターニングした前記有機機能層を有する前記基材の全面をクリーニングするクリーニング工程とを有することを特徴とする有機エレクトロニクスパネルの製造方法。
IPC (6件):
H05B 33/10
, H01L 51/50
, H05B 33/06
, H05B 33/04
, H05B 33/26
, H01L 51/42
FI (6件):
H05B33/10
, H05B33/14 A
, H05B33/06
, H05B33/04
, H05B33/26 Z
, H01L31/04 D
Fターム (25件):
3K107AA01
, 3K107BB01
, 3K107BB02
, 3K107CC23
, 3K107CC29
, 3K107CC45
, 3K107DD21
, 3K107DD26
, 3K107DD38
, 3K107DD58
, 3K107EE42
, 3K107FF03
, 3K107GG06
, 3K107GG13
, 3K107GG28
, 5F051AA11
, 5F051CB13
, 5F051CB22
, 5F051EA10
, 5F051EA15
, 5F151AA11
, 5F151CB13
, 5F151CB22
, 5F151EA10
, 5F151EA15
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