特許
J-GLOBAL ID：201103083628493967
酸化エチレン製造用触媒の処理方法及び酸化エチレンの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 曉司
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-371127
公開番号（公開出願番号）：特開2002-088074
特許番号：特許第4120162号
出願日： 2000年12月06日
公開日（公表日）： 2002年03月27日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 担体に銀化合物と錯体形成剤化合物としてアミン化合物を含有する溶液を含浸後、焼成して得られる銀とアルカリ金属群から選ばれる少なくとも1種の金属とを担持させた酸化エチレン製造用触媒を、酸化エチレンの製造に使用するまでの間に、酸素濃度が1〜10体積%である酸素含有ガスの雰囲気下、190〜250°Cで加熱処理する酸化エチレン製造用触媒の処理方法であって、アミン化合物としてエチレンジアミンを含むことを特徴とする酸化エチレン製造用触媒の処理方法。
IPC (5件)：
C07D 301/10 ( 200 6.01)
, B01J 23/04 ( 200 6.01)
, B01J 23/50 ( 200 6.01)
, B01J 38/00 ( 200 6.01)
, C07D 303/04 ( 200 6.01)
C07D 301/10
, B01J 23/04 X
, B01J 23/50 X
, B01J 38/00 301 C
, C07D 303/04
