特許
J-GLOBAL ID：201103083737924927
疎水性シリカ微粉末の製造方法
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
小島 隆司
, 西川 裕子
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-084891
公開番号（公開出願番号）：特開2001-261327
特許番号：特許第3841143号
出願日： 2000年03月24日
公開日（公表日）： 2001年09月26日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 シラン化合物を熱分解することにより得られた熱分解法シリカ微粉末を流動層中でオルガノハロシランにより処理して疎水性シリカを製造する方法において、流動槽内のガス流動速度を1.4cm/sec以上3cm/sec以下とし、熱分解法シリカ微粉末の表面積100m2当りジメチルジクロロシランを0.06〜0.1g用いることを特徴とするカーボン量が0.87重量%以上の疎水性シリカ微粉末の製造方法。
IPC (2件)：
C01B 33/18 ( 200 6.01)
, C09C 1/28 ( 200 6.01)
