特許

J-GLOBAL ID：201103083810445757

ウェハレベルレンズアレイ、レンズモジュール及び撮像ユニット

発明者： 山田 大輔
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (2件)： 高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-000188
公開番号（公開出願番号）：特開2011-138088
出願日： 2010年01月04日
公開日（公表日）： 2011年07月14日
要約：

【課題】リフロー工程の温度に起因する基板の歪みやレンズの割れ等の不具合を防止できるウェハレベルレンズアレイ、レンズモジュール及び撮像ユニットを提供する。【解決手段】基板31と、基板31に設けられた複数のレンズ30と、を備えるウェハレベルレンズアレイであって、基板31には、該基板31の第1の表面から該第1の表面とは反対側の第2の表面にわたって該基板の厚み方向に貫通する複数の貫通孔32が形成され、レンズ30は、貫通孔32をそれぞれ埋めて設けられており、基板31とレンズ30の線膨張係数が同じ、若しくは、基板31の方が大きいときには31基板とレンズ30との線膨張係数の差が3.0×10-5/°C以下である。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

基板と、該基板に設けられた複数のレンズと、を備えるウェハレベルレンズアレイであって、 前記基板には、該基板の第1の表面から該第1の表面とは反対側の第2の表面にわたって該基板の厚み方向に貫通する複数の貫通孔が形成され、 前記レンズは、前記貫通孔をそれぞれ埋めて設けられており、 前記基板と前記レンズの線膨張係数が同じ、若しくは、前記基板の方が大きいときには 前記基板と前記レンズとの前記線膨張係数の差が3.0×10-5/°C以下であるウェハレベルレンズアレイ。

IPC (1件)：

G02B 7/02

FI (2件)：

G02B7/02 F ,  G02B7/02 Z

Fターム (3件)：

2H044AH14 ,  2H044AJ04 ,  2H044AJ06