プレート式熱交換器のプレート洗浄法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：八田幹雄 , 野上敦 , 奈良泰男 , 齋藤悦子
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-276900
公開番号（公開出願番号）：特開2001-099596
特許番号：特許第3598242号
出願日： 1999年09月29日
公開日（公表日）： 2001年04月13日
請求項（抜粋）：

【請求項1】使用により汚れたプレート式熱交換器のプレートを、0.01〜3.0体積%濃度のフッ化水素酸からなる溶解用薬液を用いて洗浄を行うことを特徴とする半導体工場における水処理の工程で、半導体洗浄工程で使用されて不純物を含んだ半導体洗浄水を濃縮させるために用いられるプレート式熱交換器のプレート洗浄法。

IPC (1件)：