特許
J-GLOBAL ID：201103085219987764
フォトマスクユニット、フォトマスク装置、投影露光装置、投影露光方法及び半導体装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高田 守 (外2名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-071864
公開番号（公開出願番号）：特開2002-270497
特許番号：特許第3483861号
出願日： 2001年03月14日
公開日（公表日）： 2002年09月20日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 フォトマスク基板と、このフォトマスク基板の表面に対向しこの表面と所定の間隔をおいて張設されたペリクル膜と、このペリクル膜を保持しこのペリクル膜と前記フォトマスク基板との間を封じるフレームとを備えたフォトマスクユニットと、所定量の活性ガスを含む不活性ガスからなるパージガスで満たされた内部空間に、前記フォトマスクユニットを収容する筐体とを備えたフォトマスク装置であって、前記フォトマスクユニットを透過した露光光の照度から、前記筐体内部の前記活性ガスの濃度を測定する濃度測定機構と、この濃度測定機構の出力に応じて前記活性ガスの濃度を制御する制御機構とを備えたことを特徴とするフォトマスク装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 1/14 M
, H01L 21/30 515 F
, H01L 21/30 516 F
