特許
J-GLOBAL ID:201103085298693410

剥離型高分子/シリケートナノ複合体の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 浅村 皓 (外3名)
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-349524
公開番号(公開出願番号):特開2003-082011
特許番号:特許第3470114号
出願日: 2001年11月15日
公開日(公表日): 2003年03月19日
請求項(抜粋):
【請求項1】 乳化重合法によって高分子/シリケートナノ複合体を製造する方法において、(a)層状シリケートと、高分子重合反応に提供される所定の単量体から前記層状シリケートと親和力をもつ官能基を保有した反応型乳化剤を媒介として初期粒子を形成する段階、および(b)前記(a)段階で形成された初期粒子と追加的に供給される単量体から安定化剤を用いて初期粒子を乳化重合する段階、を含むことを特徴とする剥離型高分子/シリケートナノ複合体の製造方法。
IPC (3件):
C08F 2/44 ,  C08F 2/24 ,  C08F 12/00 510
FI (3件):
C08F 2/44 A ,  C08F 2/24 A ,  C08F 12/00 510
引用特許:
出願人引用 (2件)

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