特許
J-GLOBAL ID：201103085530537594

マルチビーム光走査光学系及びマルチビーム光走査装置及び画像形成装置

発明者：
石部 芳浩

石部 芳浩 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 内尾 裕一
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-309245
公開番号（公開出願番号）：特開2002-116396
特許番号：特許第4541523号
出願日： 2000年10月10日
公開日（公表日）： 2002年04月19日
請求項（抜粋）：
【請求項1】少なくとも主走査方向にずらして配置された複数の発光点と、前記複数の発光点から出射した複数の光ビームを光偏向器の偏向面に入射させる集光レンズを有する入射光学系と、前記光偏向器の偏向面にて偏向走査された複数の光ビームを被走査面に結像させる走査光学系と、を有するマルチビーム光走査光学系であって、 前記入射光学系は、前記複数の発光点と前記集光レンズの間にリレー光学系が配置され、かつ、前記入射光学系は、主走査断面内において、前記リレー光学系により前記複数の発光点から出射された複数の光ビームのそれぞれの結像点よりも前記発光点側に前記複数の発光点から出射した複数の光ビームのそれぞれの光ビームのビーム幅を制限する開口絞りが配置されており、 主走査断面内において、前記集光レンズにより、前記開口絞りと前記光偏向器の偏向面は、共役な関係とされていることを特徴とするマルチビーム光走査光学系。
IPC (6件)：
G02B 26/10 ( 200 6.01) ,  B41J 2/44 ( 200 6.01) ,  G02B 13/00 ( 200 6.01) ,  G02B 13/08 ( 200 6.01) ,  G02B 13/18 ( 200 6.01) ,  H04N 1/113 ( 200 6.01)
FI (7件)：
G02B 26/10 B ,  G02B 26/10 D ,  B41J 3/00 D ,  G02B 13/00 ,  G02B 13/08 ,  G02B 13/18 ,  H04N 1/04 104 A
引用特許：
出願人引用 (4件)
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