特許

J-GLOBAL ID：201103085734030650

粗ビス-β-ヒドロキシエチルテレフタレートの精製方法および精製ビス-β-ヒドロキシエチルテレフタレート

発明者： 稲田 修司 ,  佐藤 菊智
出願人/特許権者： 株式会社アイエス
代理人 (1件)： 大島 正孝
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-222663
公開番号（公開出願番号）：特開2001-048835
特許番号：特許第3782905号
出願日： 1999年08月05日
公開日（公表日）： 2001年02月20日
請求項（抜粋）：

【請求項1】ポリエチレンテレフタレートのエチレングリコール解重合により得られ、(i)Na、Mg、Ca、Fe、Co、Zn、Ti、Sn、Sb、GeおよびPよりなるカチオン並びに(ii)ハロゲン、NO2、NO3、PO4およびSO4よりなるアニオンの合計含有量が50ppm以下である粗ビス-β-ヒドロキシエチルテレフタレートを減圧下蒸発または蒸留することを特徴とする、ビス-β-ヒドロキシエチルテレフタレートの精製方法。

IPC (3件)：

C07C 67/54 ( 200 6.01) ,  C07C 67/56 ( 200 6.01) ,  C07C 69/82 ( 200 6.01)

FI (3件)：

C07C 67/54 ,  C07C 67/56 ,  C07C 69/82 B

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特公昭49-015255
  
• 特開昭49-036646