特許

J-GLOBAL ID：201103085829161663

強磁性金属薄膜の製造方法

発明者： 新海 茂
出願人/特許権者： 関西日本電気株式会社
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平1-226624
公開番号（公開出願番号）：特開平3-089506
特許番号：特許第2849412号
出願日： 1989年08月31日
公開日（公表日）： 1991年04月15日
請求項（抜粋）：

【請求項1】Si,Al,Feを組成分とするセンダスト合金の強磁性金属薄膜か又は、上記組成分に、Ru,Ti,Cr中の少なくとも一種類以上添加した強磁性金属薄膜を対向ターゲット式スパッタリング法によって成膜する製造方法において、基板に最も近いターゲットの外周部の一点と、ターゲットに最も近い基板の外周部の一点とを結ぶ方向と、基板表面とのなす角度が0 ゚よりも大きく、かつ45 ゚以下であることを特徴とする強磁性金属薄膜の製造方法。

IPC (2件)：

H01F 41/18 ,  C23C 14/34

FI (2件)：

H01F 41/18 ,  C23C 14/34 P

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭63-100156
  
• 特開昭58-055566