特許
J-GLOBAL ID：201103086500117740
プラズマ処理方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大西 健治
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平1-199281
公開番号（公開出願番号）：特開平3-064025
特許番号：特許第3073207号
出願日： 1989年08月02日
公開日（公表日）： 1991年03月19日
請求項（抜粋）：
【請求項1】プラズマ処理装置のベルジャの内面側に配置された試料に対してプラズマを発生してプラズマ処理を行うプラズマ処理方法において、プラズマ処理にてプラズマを発生する前またはプラズマの発生を終えた後に、前記ベルジャの内面側の真空度をプラズマ処理時より高くして該ベルジャを加熱し、該ベルジャの内面の堆積物を除去することを特徴とするプラズマ処理方法。
IPC (2件)：
H01L 21/3065
, H01L 21/31
H01L 21/302 N
, H01L 21/31 C
