特許
J-GLOBAL ID:201103086829597220

溶射装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 藤田 考晴 ,  上田 邦生
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-033895
公開番号(公開出願番号):特開2011-168840
出願日: 2010年02月18日
公開日(公表日): 2011年09月01日
要約:
【課題】未溶着の溶射粒子を高濃度に回収でき、容易に選別・再利用でき、溶射粒子の利用率を向上させ得る溶射装置を提供する。【解決手段】溶射ガン3から発射される溶射粒子を通過させるように被溶射体5の周囲を囲う第一内部空間11を形成する第一包囲体9と、第一内部空間11の雰囲気を吸引排気する第一排気系13と、第一排気系13に介装され、溶射粒子を選別するサイクロン27と、第一包囲体9の周囲を囲う第二内部空間45を形成する第二包囲体43と、第二内部空間45の雰囲気を吸引排気する第二排気系47と、を備え、第二内部空間45の雰囲気は、第一内部空間11の雰囲気よりも低圧とされている。【選択図】図4
請求項(抜粋):
溶射ガンから発射される溶射粒子を通過させるように被溶射体の周囲を囲う第一の包囲空間を形成する第一の包囲体と、 該第一の包囲空間の雰囲気を吸引排気する第一の排気系と、 該第一の排気系に介装され、前記溶射粒子を選別する粉体選別部材と、 前記第一の包囲体の周囲を囲う第二の包囲空間を形成する第二の包囲体と、 該第二の包囲空間の雰囲気を吸引排気する第二の排気系と、を備え、 前記第二の包囲空間の雰囲気は、前記第一の包囲空間の雰囲気よりも低圧とされていることを特徴とする溶射装置。
IPC (1件):
C23C 4/00
FI (1件):
C23C4/00
Fターム (15件):
4K031AA02 ,  4K031AA08 ,  4K031AB02 ,  4K031AB08 ,  4K031AB09 ,  4K031CB18 ,  4K031CB21 ,  4K031CB41 ,  4K031DA01 ,  4K031DA04 ,  4K031EA01 ,  4K031EA05 ,  4K031EA09 ,  4K031EA10 ,  4K031GA02

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