特許

J-GLOBAL ID：201103086964527232

プラズマ処理装置

発明者： 関塚 博 ,  小美野 光明
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 井上 一 (外2名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平1-299990
公開番号（公開出願番号）：特開平3-159230
特許番号：特許第2711321号
出願日： 1989年11月17日
公開日（公表日）： 1991年07月09日
請求項（抜粋）：

【請求項1】プロセスガス雰囲気にて被処理体をプラズマ処理する処理炉と、プラズマ生成用の電極板を保持し、この電極板に上記被処理体を支持するボートと、このボートを載置して上記処理炉に搬入出する片持ち梁状のカンチレバーと、上記カンチレバーを上記処理炉より搬出した際の上記カンチレバー自由端部下方に昇降自在に配置され、上昇した基準位置にて上記自由端部を支持するレバー支持機構と、を設けたことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/50 ,  H01L 21/31

FI (3件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/50 ,  H01L 21/31 C