特許
J-GLOBAL ID：201103087067570300
高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
小島 隆司
, 西川 裕子
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-123986
公開番号（公開出願番号）：特開2002-012631
特許番号：特許第4544389号
出願日： 2001年04月23日
公開日（公表日）： 2002年01月15日
請求項（抜粋）：
【請求項1】下記一般式(1)及び(2)で示される単位を有する重量平均分子量1,000〜500,000の高分子化合物。
(式中、R1は水素原子、メチル基又はCH2CO2R3を示す。R2は水素原子、メチル基又はCO2R3を示す。R3は炭素数1〜15の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。R4は水素原子、炭素数1〜15の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、炭素数2〜15の直鎖状、分岐状又は環状のアルコキシアルキル基、又は炭素数1〜15の直鎖状、分岐状又は環状のアシル基を示す。R5は炭素数1〜8の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基又は炭素数6〜20の置換されていてもよいアリール基を示す。Yはヘテロ原子を含んでもよい炭素数4〜15の2価の炭化水素基を示し、両端で結合する炭素原子と共に環を形成する。Zは炭素数1〜10の3価の炭化水素基を示す。ZはR1と環を形成してもよく、その場合はR1はメチレン、Zは炭素数1〜10の4価の炭化水素基を示す。kは0又は1である。Wは-O-又は-(NR)-を示し、Rは水素原子又は炭素数1〜15の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。)
IPC (5件)：
C08F 232/00 ( 200 6.01)
, C08F 222/06 ( 200 6.01)
, C08F 222/40 ( 200 6.01)
, G03F 7/039 ( 200 6.01)
, H01L 21/027 ( 200 6.01)
C08F 232/00
, C08F 222/06
, C08F 222/40
, G03F 7/039 601
, H01L 21/30 502 R
