特許
J-GLOBAL ID:201103087269395356
分析試料の作成方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
青山 葆
, 山崎 宏
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-340347
公開番号(公開出願番号):特開2003-139667
特許番号:特許第3697408号
出願日: 2001年11月06日
公開日(公表日): 2003年05月14日
請求項(抜粋):
【請求項1】分析試料を保持する支持基板に凹部を形成する工程と、上記支持基板の凹部内に上記分析試料を収容して、上記分析試料の一方の表面を上記支持基板の凹部の底面に密着させて、上記分析試料を上記支持基板に固定する工程と、上記分析試料の他方の表面に対して研磨を行うことにより、上記分析試料を薄膜化する工程とを備えたことを特徴とする分析試料の作成方法。
IPC (4件):
G01N 1/32
, G01N 1/10
, G01N 1/28
, G01N 23/225
FI (4件):
G01N 1/32 A
, G01N 1/10 X
, G01N 23/225
, G01N 1/28 H
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