特許
J-GLOBAL ID：201103087463187799
化粧料
出願人/特許権者：
代理人 (5件)： 特許業務法人アルガ特許事務所 , 有賀 三幸 , 高野 登志雄 , 中嶋 俊夫 , 的場 ひろみ
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-213858
公開番号（公開出願番号）：特開2001-039845
特許番号：特許第3949321号
出願日： 1999年07月28日
公開日（公表日）： 2001年02月13日
請求項（抜粋）：
【請求項1】次の一般式(1)で表されるポリエーテルを含有し、皮膚又は毛髪表面にて皮膜を形成する化粧料。
-[X]m-[Y]n- (1)
〔式中、m個のXは同一又は異なって、一般式(X)で表される基を示し、
(R1 、R2 及びR3 は同一又は異なって、水素原子、メチル基又はエチル基を示す。
Gは置換基を有していてもよい炭素数1〜20の2価の飽和炭化水素基又は炭素数6〜30のアリーレン基を示す。
R4 、R5 、R6 、R7 及びR8 の個々の基は同一でも異なってもよく、それぞれ置換基を有していてもよい炭素数1〜30の炭化水素基又はケイ素原子数1〜200のシロキシ基若しくはポリシロキシ基を示す。
aは1又は2の数を示し、bは0又は1の数を示し、cは平均値として1〜500の数を示すか、又は単一の数として1〜20の整数を示す。)
n個のYは同一又は異なって、一般式(Y1)、(Y2)又は(Y3)で表される基を示し、
(R13、R14、R15、R17及びR18は同一又は異なって、水素原子、メチル基又はエチル基を示す。
R16は水素原子又はフッ素原子が置換していてもよい炭素数1〜32の炭化水素基を示す。
R19及びR20は同一又は異なって、水素原子、カルボキシル基、カルボキシメチル基又はそれらの塩を示す。
eは1又は2の数を示す。
fは2〜6の数を示す。)
m及びnはm/(m+n)=0.2〜1及びm+n≧10を満足する数を示す。〕
IPC (3件)：
FI (3件)：
引用特許：
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